G. Klie and J. M. P. Leu, provides a comprehensive overview of the current state of knowledge in the field of plasma-based thin film deposition techniques, highlighting the challenges and opportunities facing researchers and industry professionals in this exciting and rapidly evolving field. The authors emphasize the importance of understanding the underlying mechanisms of plasma-based deposition processes, including physical and chemical effects, in order to achieve optimal film formation and improve reproducibility and productivity in industrial applications. They argue that a personal paradigm for perceiving the technological process of developing modern knowledge is essential for the survival of humanity and the unification of people in a warring state.

G. Klie and J. M. P. u, предоставляет всесторонний обзор современного состояния знаний в области технологий плазменного осаждения тонких пленок, подчеркивая проблемы и возможности, с которыми сталкиваются исследователи и профессионалы отрасли в этой захватывающей и быстро развивающейся области. Авторы подчеркивают важность понимания основных механизмов процессов осаждения на основе плазмы, включая физические и химические эффекты, для достижения оптимального формирования пленки и улучшения воспроизводимости и производительности в промышленных применениях. Они утверждают, что личная парадигма восприятия технологического процесса развития современных знаний необходима для выживания человечества и объединения людей в воюющем государстве.

G. Klie et J. M. P. u, fournit un aperçu complet de l'état actuel des connaissances dans le domaine des technologies de dépôt plasma de films fins, soulignant les défis et les opportunités auxquels sont confrontés les chercheurs et les professionnels de l'industrie dans ce domaine passionnant et en évolution rapide. s auteurs soulignent l'importance de comprendre les principaux mécanismes des processus de dépôt plasmatique, y compris les effets physiques et chimiques, pour obtenir une formation optimale du film et améliorer la reproductibilité et la productivité dans les applications industrielles. Ils affirment que le paradigme personnel de la perception du processus technologique du développement des connaissances modernes est nécessaire à la survie de l'humanité et à l'unification des gens dans un État en guerre.

G. Klie y J. M. P. u, ofrece una visión completa del estado actual del conocimiento en el campo de las tecnologías de deposición de plasma de películas delgadas, destacando los desafíos y oportunidades que enfrentan los investigadores y profesionales de la industria en este campo emocionante y en rápido desarrollo. autores subrayan la importancia de comprender los mecanismos básicos de los procesos de deposición basados en plasma, incluidos los efectos físicos y químicos, para lograr una óptima formación de película y mejorar la reproducibilidad y el rendimiento en aplicaciones industriales. Sostienen que el paradigma personal de percibir el proceso tecnológico del desarrollo del conocimiento moderno es esencial para la supervivencia de la humanidad y la unión de las personas en un Estado en guerra.

G. Klie e J. M. P. u, fornece uma revisão completa do atual estado do conhecimento sobre a tecnologia de deposição de fitas de plasma, destacando os desafios e oportunidades enfrentados por pesquisadores e profissionais da indústria nesta área excitante e em rápida evolução. Os autores destacam a importância de compreender os principais mecanismos dos processos de sedição baseados no plasma, incluindo efeitos físicos e químicos, para alcançar a melhor formação de filme e melhorar a reprodutividade e a produtividade em aplicações industriais. Eles afirmam que o paradigma pessoal da percepção do processo tecnológico de desenvolvimento do conhecimento moderno é essencial para a sobrevivência da humanidade e a união das pessoas num estado em guerra.

G. Klie and J. M. P. u, fornisce una panoramica completa dello stato attuale della conoscenza delle tecnologie di deposito plasma delle pellicole sottili, sottolineando i problemi e le opportunità che i ricercatori e i professionisti del settore devono affrontare in questo campo affascinante e in rapida evoluzione. Gli autori sottolineano l'importanza di comprendere i meccanismi fondamentali dei processi di deposizione basati sul plasma, compresi gli effetti fisici e chimici, per ottenere la migliore formazione della pellicola e migliorare la riproduzione e la produttività nelle applicazioni industriali. Sostengono che il paradigma personale della percezione del processo tecnologico di sviluppo delle conoscenze moderne sia essenziale per la sopravvivenza dell'umanità e l'unione delle persone in uno stato in guerra.

G. Klie und J. M. P. u, bietet einen umfassenden Überblick über den aktuellen Wissensstand auf dem Gebiet der plasmagestützten Dünnschichtabscheidungstechnologie und hebt die Herausforderungen und Chancen hervor, mit denen Forscher und Fachleute in diesem spannenden und sich schnell entwickelnden Bereich konfrontiert sind. Die Autoren betonen, wie wichtig es ist, die grundlegenden Mechanismen plasmabasierter Abscheidungsprozesse einschließlich physikalischer und chemischer Effekte zu verstehen, um eine optimale Filmbildung zu erreichen und die Reproduzierbarkeit und Produktivität in industriellen Anwendungen zu verbessern. e argumentieren, dass das persönliche Paradigma der Wahrnehmung des technologischen Prozesses der Entwicklung des modernen Wissens für das Überleben der Menschheit und die Vereinigung der Menschen in einem kriegführenden Staat notwendig ist.

G. Klie i J. M. P. u, zapewnia kompleksowy przegląd aktualnego stanu wiedzy w zakresie technologii osadzania cienkich filmów plazmowych, podkreślając wyzwania i możliwości, przed którymi stoją naukowcy i specjaliści z branży w tej ekscytującej i szybko rozwijającej się dziedzinie. Autorzy podkreślają znaczenie zrozumienia podstawowych mechanizmów procesów osadzania opartych na plazmie, w tym efektów fizycznych i chemicznych, aby osiągnąć optymalne powstawanie folii oraz poprawić odtwarzalność i wydajność w zastosowaniach przemysłowych. Twierdzą, że osobisty paradygmat postrzegania technologicznego procesu rozwoju nowoczesnej wiedzy jest niezbędny do przetrwania ludzkości i zjednoczenia ludzi w stanie wojennym.

G. Klie and J. M. P. u, מספק סקירה מקיפה של מצב הידע הנוכחי בטכנולוגיות תצהיר פילם דק פלזמה, המדגיש את האתגרים וההזדמנויות הניצבים בפני חוקרים ואנשי תעשייה בתחום מרגש זה ומתפתח במהירות. המחברים מדגישים את החשיבות של הבנת המנגנונים הבסיסיים של תהליכי תצהיר מבוססי פלזמה, כולל השפעות פיזיות וכימיות, כדי להשיג היווצרות סרט אופטימלי ולשפר את הרבייה והביצועים ביישומים תעשייתיים. לטענתם, פרדיגמה אישית של תפיסה לגבי התהליך הטכנולוגי של התפתחות הידע המודרני הכרחית להישרדות האנושות ולאיחוד בני האדם במדינה לוחמת.''

G. Klie ve J. M. P. u, plazma ince film biriktirme teknolojilerindeki mevcut bilgi durumuna kapsamlı bir genel bakış sunarak, bu heyecan verici ve hızla gelişen alanda araştırmacıların ve endüstri profesyonellerinin karşılaştığı zorlukları ve fırsatları vurgulamaktadır. Yazarlar, optimal film oluşumunu sağlamak ve endüstriyel uygulamalarda tekrarlanabilirliği ve performansı artırmak için fiziksel ve kimyasal etkiler de dahil olmak üzere plazma bazlı biriktirme süreçlerinin altında yatan mekanizmaları anlamanın önemini vurgulamaktadır. Modern bilginin gelişiminin teknolojik sürecinin kişisel bir algı paradigmasının, insanlığın hayatta kalması ve insanların savaşan bir durumda birleşmesi için gerekli olduğunu savunuyorlar.

G. Klie and J. M. P. u، يقدمان لمحة عامة شاملة عن الحالة الحالية للمعرفة في تقنيات ترسيب الأفلام الرقيقة في البلازما، ويسلطان الضوء على التحديات والفرص التي يواجهها الباحثون والمتخصصون في الصناعة في هذا المجال المثير والمتطور بسرعة. يؤكد المؤلفون على أهمية فهم الآليات الأساسية لعمليات الترسيب القائمة على البلازما، بما في ذلك التأثيرات الفيزيائية والكيميائية، لتحقيق التكوين الأمثل للأفلام وتحسين قابلية التكاثر والأداء في التطبيقات الصناعية. وهم يجادلون بأن النموذج الشخصي للإدراك للعملية التكنولوجية لتطوير المعرفة الحديثة ضروري لبقاء البشرية وتوحيد الناس في دولة متحاربة.

G. Klie와 J. M. u는 플라즈마 박막 증착 기술에 대한 현재의 지식 상태에 대한 포괄적 인 개요를 제공하여이 흥미롭고 빠르게 진화하는 분야에서 연구원과 업계 전문가가 직면 한 과제와 기회를 강조합니다. 저자는 최적의 필름 형성을 달성하고 산업 응용 분야에서 재현성과 성능을 향상시키기 위해 물리적 및 화학적 효과를 포함한 플라즈마 기반 증착 공정의 기본 메커니즘을 이해하는 것의 중요성을 강조합니다. 그들은 인류의 생존과 전쟁 상태에있는 사람들의 통일을 위해서는 현대 지식 발전의 기술 과정에 대한 인식의 개인적인 패러다임이 필요하다고 주장한다.

G。 KlieとJ。 M。 P。 uは、このエキサイティングで急速に進化する分野で研究者や業界の専門家が直面する課題と機会を強調し、プラズマ薄膜蒸着技術における知識の現在の状態の包括的な概要を提供します。本研究では、物理的および化学的効果を含むプラズマベースの蒸着プロセスの基盤メカニズムを理解し、最適なフィルム形成を実現し、産業用途における再現性と性能を向上させることの重要性を強調している。彼らは、現代の知識の発展の技術的プロセスの認識の個人的なパラダイムは、人類の生存と戦争状態での人々の統一のために必要であると主張しています。

G. Klie和J. M. P. u全面概述了薄膜等離子體沈積技術的現代知識狀況，突出了研究人員和行業專業人士在這個令人興奮和快速發展的領域面臨的挑戰和機遇。作者強調了了解基於等離子體的沈積過程的基本機理的重要性，包括物理和化學影響，以實現最佳膜形成並改善工業應用中的可重復性和性能。他們認為，人類生存和交戰國人民團結所必需的現代知識發展的技術過程的個人範式。